SemiPOL能夠對各種材料(光學鏡片、半導體晶片、金屬非金屬晶相)進行精確的研磨拋光，從而進行顯微鏡(SEM、FIB、TEM等)分析。目標精度微米級。主要作平行研磨拋光，結合更多附件，使復雜異形件及面的研磨拋光更容易。 實時監(jiān)控材料去除量，或量化設定材料磨屑量并實現無人值守操作。雙步進電機驅動，分別控制研磨座擺動速度和幅度提高研磨件平面度、光整度及研磨耗材利用率。

產品特點

（1）研磨盤尺寸：8英寸(Φ203mm)；

（2）研磨盤轉速：0–3500rpm，可正轉/反轉；

（3）液晶屏實時顯示材料去除量，分辨率1μm，穩(wěn)定精度10μm；

（4）可設定材料磨削量，分辨率1μm，穩(wěn)定精度10μm，磨屑量到達設定值，設備自動停止運行；

（5）可設定研磨時間，研磨時間到達設定值，設備自動停止運行；

（6）7英寸液晶顯示/觸摸屏，可保存/編輯至少20組參數；

（7）樣品可自轉，可不轉，可往復擺動，擺動幅度可調；

（8）自動/手動控制冷卻水通斷；

（9）主軸電機功率750W，采用伺服電機，大扭矩、恒扭矩輸出；樣品擺動采用步進電機，扭矩更大更耐用；